Forschung Wie Wissenschaftler die Mikroelektronik der Zukunft vorantreiben wollen

Ein institutsübergreifendes Team unter der Leitung des Berkeley Lab könnte den Chipherstellern helfen, dem Moore's Law einen Schritt voraus zu sein.

Ein neues Zentrum unter der Leitung des Lawrence Berkeley National Laboratory (Berkeley Lab) könnte die nächste Revolution bei Mikrochips beschleunigen - den winzigen Siliziumbauteilen, die in allen möglichen Geräten zum Einsatz kommen, von Smartphones und intelligenten Lautsprechern bis hin zu lebensrettenden medizinischen Geräten und Elektroautos.

Das neue Zentrum mit dem Namen CHiPPS (Center for High Precision Patterning Science) wird von dem Mikroelektronik-Experten Ricardo Ruiz (Bild 1) geleitet. Er ist auch wissenschaftlicher Mitarbeiter in der Molecular Foundry (Bild 2), einer nanowissenschaftlichen Einrichtung des Berkeley Lab.

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"Fortschrittliche Computerchips sind aus dem modernen Leben nicht mehr wegzudenken. An der Spitze dieser Technologie zu bleiben - und mit Moore's Law Schritt zu halten - ist entscheidend für unsere wirtschaftliche Sicherheit und unsere nationale Verteidigung", sagte Ruiz.

Über einen Zeitraum von vier Jahren werden Ruiz und seine Forschungspartner ihr vielfältigen wissenschaftlichen Kompetenzen auf ein gemeinsames Ziel ausrichten: Neue Erkenntnisse über die Wissenschaft der extremen Ultraviolettlithografie (EUVL, Bild 3) zu gewinnen, einer revolutionären Technologie, die es den weltweit führenden Halbleiterherstellern ermöglicht, mehr als 100 Milliarden Transistoren auf einem Chip von der Größe eines Fingernagels unterzubringen.

Das Team (Bild 4) besteht aus Wissenschaftlern der Molecular Foundry des Berkeley Lab, der Advanced Light Source, des Center for X-Ray Optics, der Chemical Sciences Division und der Energy Storage & Distributed Resources Division. Hinzu kommen Mitarbeiter des Argonne National Laboratory, der San José State University, der Stanford University, der University of California in Santa Barbara und der Cornell University.

Die Arbeit der Forscher könnte den Chipherstellern helfen, noch kleinere und leistungsfähigere Chips als bisher herzustellen und die Ziele des 'Creating Helpful Incentives to Produce Semiconductors and Science Act' zu unterstützen, der darauf abzielt, Unterbrechungen in Lieferketten zu mildern, indem es die USA dabei unterstützt, die fortschrittlichsten Chips der Welt im eigenen Land zu entwickeln und zu produzieren. (Der CHIPS and Science Act wurde im letzten Sommer von Präsident Joe Biden unterzeichnet).

Im vergangenen Jahr bewilligte das US-Energieministerium dem CHiPPS-Forschungszentrum im Rahmen des 'Energy Frontier Research Centers' -Programms für vier Jahre insgesamt 11,5 Millionen Dollar für die Grundlagenforschung im Bereich der EUV-Lithografie, einschließlich neuer Materialien und ihrer Wechselwirkung mit EUV-Licht..

Die Arbeiten des CHiPPS-Zentrums umfassen vier Forschungsschwerpunkte (Bild 5), die sich auf die Synthese von Fotomaterialien, neue "hierarchische", selbstorganisierende Materialien, Theorie und Modellierung sowie neue Techniken zur Charakterisierung von EUV-Lithografie-Materialien mit atomarer Präzision konzentrieren.

Das CHiPPS-Forschungszentrum soll nicht nur die EUVL-Forschung vorantreiben, sondern legt auch großen Wert auf die Entwicklung von Humanressourcen, um die nächste Generation von Wissenschaftlern und Ingenieuren zu fördern, so Ruiz. Im Rahmen einer Zusammenarbeit mit der San José State University bietet das CHiPPS-Zentrum jeden Sommer ein Praktikumsprogramm für vier Studenten an, von denen zwei Studenten im Grundstudium und zwei im Hauptstudium sind (Die erste Gruppe hat bereits im Juni begonnen.)

Vor seinem Eintritt in das Berkeley Lab im Jahr 2019 arbeitete Riuz als Forscher in der Mikroelektronik- und Datenspeicherindustrie, wo er sich bei Hitachi Global Storage Technologies auf polymerbasierte Lithografietechniken für magnetische Datenspeicher und bei Western Digital auf alternative Nanofabrikationstechniken für nichtflüchtige Speicher spezialisierte. Er promovierte 2003 in Physik an der Vanderbilt University und arbeitete als Postdoktorand an der Cornell University und bei IBM, bevor er 2006 zu Hitachi Global Storage Technologies kam. Im folgenden Interview schildert er seine Sicht der Dinge.

Duque: Wie wird das neue CHiPPS Energy Frontier Research Center die Mikroelektronik voranbringen?

Ruiz: Die Mission des CHiPPS-Zentrums ist es, ein neues grundlegendes Verständnis und die Kontrolle über die Strukturierung von Materialien und Prozessen mit atomarer Präzision zu schaffen. Ziel ist es, die großtechnische Herstellung der nächsten Generation der Mikroelektronik zu ermöglichen. Im Klartext bedeutet dies, dass wir uns auf die wissenschaftliche Erforschung der sogenannten EUV-Lithografie (Extreme Ultraviolet Lithography) konzentrieren.

Die EUV-Lithografie ist der Schlüssel zur Herstellung von Mustern für integrierte Schaltkreise in der Größenordnung von einem milliardstel Meter in den Materialien, die zur Herstellung moderner Mikrochips verwendet werden. Es handelt sich dabei um den neuesten Fortschritt in der Lithografie, einer Technik, bei der mithilfe von Licht winzige Muster in Silizium gedruckt werden, um Mikrochips in Serienproduktionen herzustellen.

In den letzten fünf Jahrzehnten haben sich die lithografischen Techniken schrittweise weiterentwickelt, von der Verwendung von Licht im sichtbaren Bereich, wo die Wellenlängen bis zu 400 Nanometern betragen, bis hin zur jüngsten Entwicklung: dem extremen UV-Bereich mit kurzen Wellenlängen von 13,5 Nanometern, die etwa 40-mal kürzer sind als die Wellenlängen des sichtbaren Lichts. Diese Fortschritte in der Lithografie haben es ermöglicht, mit immer kürzeren Wellenlängen immer kleinere und komplexere Mikrochips herzustellen.

Die EUV-Lithografie, die erst vor Kurzem für die Herstellung von Mikrochips im Jahr 2019 eingeführt wurde, steht noch vor zahlreichen Herausforderungen, insbesondere bei der Entwicklung fortschrittlicher Strukturierungsmaterialien, die für hochauflösende Herstellungsprozesse mit hohem Durchsatz unter Verwendung von Licht in Form von EUV-Strahlung geeignet sind.

Die heute für die Herstellung von Mikrochips verwendeten lichtempfindlichen chemischen Filme, die sogenannten Fotolacke oder Resists, absorbieren EUV-Strahlung nicht effizient, und es ist wenig darüber bekannt, wie diese Fotolacke mit EUV-Licht interagieren.

Und genau hier kommen wir ins Spiel.

Bei CHiPPS nutzen wir die Gelegenheit, um neue Photoresist-Materialien zu entwickeln, die speziell für den Einsatz mit der EUV-Strahlung ausgelegt sind. Wir wollen grundlegende wissenschaftliche Herausforderungen angehen, um die chemischen Reaktionen besser zu verstehen und zu kontrollieren, die durch die Wechselwirkung zwischen der EUV-Strahlung und den Resistmaterialien entstehen. Diese winzigen, aber lokal begrenzten chemischen Veränderungen im Resist ermöglichen die Herstellung kleinerer Muster, um beispielsweise kleinere Transistoren zu drucken, was die Produktion schnellerer und dichterer Mikrochips erleichtert.

Duque: Die Mikroelektronikindustrie verfügt bereits über 50 Jahre Erfahrung in der Lithografie. Wie unterscheidet sich der Ansatz des CHiPPS EFRC (Energy Frontier Research Center) auf dem Gebiet der Lithografie davon?

Ruiz: EUV-Strahlung ist grundsätzlich ein ganz anderes Licht als die früheren Generationen von Licht, die die Chipindustrie in den letzten 50 Jahren verwendet hat. Und es ist noch gar nicht so lange her, dass die Chipindustrie tiefultraviolettes Licht (193 nm) verwendet hat, um Transistormuster auf Silizium zu drucken, eine Schlüsselkomponente bei der Chipherstellung.

Die EUV-Lithographie verwendet Licht mit einer Wellenlänge von nur 13,5 Nanometern. Das ist zehnmal kürzer als bei der vorherigen Generation, was bedeutet, dass die EUV-Photonen zehnmal energiereicher sind.

Leider sind herkömmliche Fotolacke für das tiefe UV bei EUV-Wellenlängen sehr schlechte Absorber. Wenn EUV-Licht absorbiert wird, schlagen die hochenergetischen Photonen Elektronen aus den Resist- und Substratmaterialien heraus. Dies wiederum löst weitere "sekundäre" Elektronenkaskaden aus.

Und genau hier liegt das Problem der heute verwendeten Fotolackmaterialien: Es sind die niederenergetischen Sekundärelektronen, die chemische Veränderungen im Fotolack bewirken. Dies ist nur unzureichend erforscht und schwer kontrollierbar, da wenig darüber bekannt ist, wie sich Materialien auf atomarer Ebene verhalten, wenn sie mit EUV-Licht wechselwirken.

Die Lösung dieses Problems ist eine Herausforderung, aber glücklicherweise haben wir die Stärke eines großen interdisziplinären Teams. Wir haben besonders darauf geachtet, die klügsten Köpfe in allen Bereichen der Strukturierungswissenschaft zusammenzubringen, die sich bereits durch Zusammenarbeit und Teamwork ausgezeichnet haben.

Unser interdisziplinäres Team aus 13 Forschern deckt alle wissenschaftlichen Disziplinen ab, von synthetischer Chemie über Nanomaterialien und Physik bis hin zur Computermodellierung. Unsere Wissenschaftler kommen von einigen der führenden nationalen Labors und Universitäten, darunter Berkeley Lab, Stanford University, San José State University, UC Santa Barbara, Argonne National Laboratory und Cornell University.

Jeder im Team freut sich auf die Zusammenarbeit. Wir erforschen neue physikalische und chemische Methoden und haben alle dasselbe Ziel: die Grenzen der Materialstrukturierung zu verschieben, um der Mikrochip-Industrie zu helfen, dem Mooreschen Gesetz einen Schritt voraus zu sein. (Moore's Law ist nach dem Mitbegründer von Intel, Gordon Moore, benannt, der 1965 prognostizierte, dass sich die Anzahl der Transistoren auf einem Chip alle zwei Jahre verdoppeln würde, bis die Technologie an ihre Grenzen hinsichtlich Miniaturisierung und Leistung stößt).

Duque: Inwiefern sind CHiPPS und Berkeley Lab einzigartig positioniert, um die EUV-Lithografie in der Mikrochip-Industrie voranzutreiben?

Ruiz: Als multidisziplinäres nationales Labor bietet das Berkeley Lab eine Kombination aus Forschungseinrichtungen, Zugang zu wissenschaftlichen Großgeräten und Fachwissen in den Bereichen Chemie, Materialwissenschaften, Physik, Ingenieurwesen und Informatik - und eine Nähe zu Industrie und Universitäten, wie sie sonst nirgendwo zu finden ist. Das Berkeley Lab beherbergt auch das Center for X-Ray Optics und die Advanced Light Source.

Die Advanced Light Source (ALS) ist eine Synchrotronanlage, die sehr brillante Röntgenstrahlung erzeugt, einschließlich weicher Röntgenstrahlung und extrem ultravioletter Strahlung, die für die Charakterisierung von Photoresist-Materialien von entscheidender Bedeutung ist.

In unmittelbarer Nähe der ALS befindet sich das Center for X-Ray Optics (CXRO), das sich dem wissenschaftlichen und technologischen Fortschritt durch den Einsatz von optischen Systemen und Techniken mit kurzen Wellenlängen widmet, wobei der Schwerpunkt auf der EUV-Technologie liegt.

CXRO beherbergt eine einzigartige Lithografie-Plattform, eine sogenannte "EUV-Belichtungseinheit mit hoher numerischer Apertur", die ein wesentlich besseres Auflösungsvermögen als die derzeitigen EUV-Plattformen bietet. CXRO ist derzeit die einzige Forschungseinrichtung weltweit, an der Industriepartner dieses Gerät nutzen können, um neue Strukturierungsmaterialien zu testen.

Es gibt nur wenige Orte auf der Welt, an denen mit EUV-Licht geforscht werden kann, da es sehr teuer und schwierig ist, EUV-Licht und EUV-Optiken herzustellen. Ein EUV-Lithografiegerät der ersten Generation kostet beispielsweise mehr als 100 Millionen US-Dollar. Das können sich Forschungslabors oder auch die Mikrochip-Industrie nur für Forschungszwecke nicht leisten.

CXRO ist strategisch so positioniert, dass es Chipherstellern wie Intel und Samsung helfen kann, die EUV-Lithografie zu erforschen, ohne ein 100 Millionen Dollar teures EUV-Lithografiesystem kaufen zu müssen. Darüber hinaus bietet CXRO zusammen mit dem benachbarten ALS einzigartige Fähigkeiten und wissenschaftliches Know-how, die für das Verständnis der Wechselwirkung von EUV-Licht mit Photoresist-Materialien entscheidend sind.

Die Wissenschaft der Mikrochipstrukturierung erfordert jedoch weit mehr als nur EUV-Belichtungs- und Charakterisierungskapazitäten. Wir brauchen auch spezialisierte Instrumente und Experten von Weltrang für die Materialsynthese. Hier werden wir uns stark auf die Molecular Foundry von Berkeley Lab stützen. Ihre Einrichtungen für organische und biologische Nanostrukturen sind entscheidend für die Herstellung neuer nanostrukturierter Materialien, die empfindlicher gegenüber EUV-Licht sind.

Die Molecular Foundry beherbergt auch eine 450 m2 große Reinraumanlage für Strukturierung, Nanofabrikation und molekulare Selbstorganisation. Diese Einrichtung ist von besonderer Bedeutung für die Entwicklung atomar präziser Musterübertragungstechniken für neue EUV-Materialien.

Auf der Suche nach einem umfassenden Verständnis aller chemischen und physikalischen Phänomene ist die Modellierungs- und Simulationsforschung rund um die EUV-Strukturierung von zentraler Bedeutung. Diese Arbeiten werden durch die Rechenkapazitäten und die Expertise der Abteilungen 'Chemical Sciences' und 'Energy Storage & Distributed Resources' des Berkeley Lab unterstützt, zusammen mit den Rechenressourcen des National Energy Research Scientific Computing Center (NERSC) des Department of Energy, das sich ebenfalls am Berkeley Lab befindet.

Duque: Früher galt es als undenkbar, die Grenzen des Mooreschen Gesetzes zu überschreiten. Wie will das CHiPPS-Team die EUV-Lithografie-Forschung vorantreiben, um diesem Gesetz einen Schritt voraus zu sein?

Ruiz: Die Entwicklung von Hochleistungsmaterialien, die EUV-Licht stark absorbieren, und von präzisen lithografischen Mustern, die durch kontrollierte chemische Reaktionen auf atomarer Ebene erzeugt werden, sind zwei Ziele, die entscheidend dafür sind, dass wir die Grenzen dieses Gesetzes erfolgreich überwinden. Um diese Ziele zu erreichen, nutzen unsere CHiPPS-Forscher die Vorteile der Zusammenarbeit in einem Team, das größer ist als die Summe seiner Teile.

Brett Helms (Berkeley Lab), Chris Ober (Cornell), Rachel Segalman (UC Santa Barbara) und Stacey Bent (Stanford) entwickeln neue Photoresist-Materialien, die speziell für den Einsatz von EUV-Strahlung geeignet sind. Im Rahmen einer institutionenübergreifenden Zusammenarbeit leitet Brett die Arbeiten an einer neuen Materialklasse, den Organometallhalogeniden. Chris und Rachel arbeiten an der Entwicklung biomimetischer, sequenzspezifischer Polymere. Und Stacey arbeitet an "trockenen" Resistsubstanzen, die aus geschichteten metallorganischen Materialien synthetisiert werden.

Bei CHiPPS erforschen wir auch hierarchische "Bottom-up"-Materialien und -Prozesse als mögliche Lösung, um die Grenzen von Photoresistmaterialien zu überwinden. Paul Nealey von Argonne konzentriert sich zum Beispiel auf die Entwicklung hoch anpassungsfähiger Block-Copolymer-Materialien für lithografische Strukturen mit einer Größe von nur 4 Nanometern. (Zum Vergleich: Ein Blatt Papier ist etwa 100.000 Nanometer dick.) Paul, Stacey und ich arbeiten gemeinsam an der Anwendung verschiedener Methoden der Selbstmontage und des Mustertransfers.

Unsere Teams arbeiten auch zusammen, um die Thermodynamik von selbstorganisierenden Polymeren auf "verrauschten" oder defekten EUV-Mustern zu verstehen. Wir arbeiten auch mit Paul Nealey und Patrick Naulleau, dem Direktor von CXRO, zusammen, um Defekte in Fotolackmustern zu identifizieren und zu minimieren. Ein gemeinsames Ziel - unter der Leitung von Stacey Bent in Stanford mit meiner Gruppe am Berkeley Lab und Paul Nealeys Gruppe in Argonne - konzentriert sich auf einen bereichsselektiven Abscheidungsprozess, der die Schaltkreismuster präzise vom Fotolack auf den Siliziumwafer überträgt.

Bei CHiPPS sind Computermodellierung und -simulation die Eckpfeiler für das Verständnis der chemischen und physikalischen Phänomene, die der Musterbildung mit EUV-Strahlung zugrunde liegen. Sam Blau und Frances Houle vom Berkeley Lab führen Computermodellierungs- und Simulationsexperimente durch, um zu verstehen, wie strukturbildende Materialien auf EUV-Licht und niederenergetische Elektronen reagieren. Ihre Arbeit wird uns auch helfen, die chemischen und physikalischen Prozesse, die nach der Bestrahlung ablaufen, besser zu verstehen.

Sie arbeiten eng mit Cheng Wang, Oleg Kostko und Patrick Naulleau vom Berkeley Lab und Dahyun Oh von der San José State University zusammen, um relevante experimentelle Daten für ihre Modellierung zu nutzen. Das Team wird auch zu den Synthesebemühungen von Brett Helms, Chris Ober, Rachel Segalman und Stacey Bent beitragen.

Um unsere Materialien und Prozesse effizient zu überwachen und zu validieren, wird CHiPPS auf eine umfassende Charakterisierungssuite zurückgreifen, die von Cheng Wang, Oleg Kostko, Patrick Naulleau, Weilun Chau (ebenfalls Berkeley Lab) und Dahyun Oh entwickelt wurde. Damit können wir vergrabene Merkmale in Resistmaterialien abbilden, die Auswirkungen von EUV-Belichtung bewerten, das Verhalten von Sekundärelektronen untersuchen, die Rauheit von Grenzflächen messen und die Rolle von Grenzflächen im Strukturierungsprozess verstehen.

Wie Sie sehen, ist unser hochintegriertes, kooperatives Team unser größtes Kapital. Wir alle sind motiviert durch die aufregenden Entwicklungen in der Strukturierungswissenschaft. Und wir wissen, dass wir die vor uns liegenden Herausforderungen nur im Team meistern können.

(Die Advanced Light Source, die Molecular Foundry und das NERSC sind Einrichtungen des DOE Office of Science am Berkeley Lab).

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Wie Mentoring die nächste Generation von Wissenschaftlern und Ingenieuren fördern kann

Wenn man den Direktor von CHiPPS, Ricardo Ruiz, fragt: Ist das Mentoring der nächsten Generation von Wissenschaftlern und Ingenieuren genauso wichtig, wenn nicht sogar wichtiger als die Förderung der EUV-Lithografieforschung für die nächste Generation der Mikroelektronik? Dann ist hier die Antwort von jemandem, der aus erster Hand weiß, wie Mentoring ein aufkeimendes Interesse an STEM (Wissenschaft, Technologie, Ingenieurwesen und Mathematik) inspirieren und in eine blühende und lohnende Karriere verwandeln kann.

"Seit ich am Berkeley Lab arbeite, habe ich neben den Postdocs in meiner Gruppe auch eine ganze Reihe von Praktikanten betreut. Mentoring war für mich immer sehr wichtig. Über die Jahre hatte ich das Glück, mit inspirierenden Mentoren zusammenzuarbeiten, die meine Karriere geprägt haben. Jetzt versuche ich, so gut ich kann, der nächsten Generation von Wissenschaftlern, die eine neue Perspektive und Energie für den wissenschaftlichen Fortschritt mitbringen, eine ähnliche Erfahrung zu ermöglichen. Die Zusammenarbeit mit ihnen am Berkeley Lab war eine lohnende und erfüllende Erfahrung. Mentoring ist eine Verantwortung, die ich sehr ernst nehme, da es einen positiven Kreislauf der Zusammenarbeit und des Wissens fördert und gleichzeitig zukünftige Führungspersönlichkeiten in der Wissenschaft ausbildet", sagte er.

Nachstehend ein Auszug aus einem Gespräch mit Herrn Ruiz über die Bedeutung des STEM-Mentoring.

Duque: Sie sind promovierter Physiker und ein führender Experte auf dem Gebiet der Nanostrukturierung für die Mikroelektronik. Haben Sie als Kind davon geträumt, in der Mikroelektronik zu forschen?

Ruiz: Ganz und gar nicht. In der Schule wollte ich Astronom werden, aber erst später, während des Studiums und der Doktorandenausbildung, entdeckte ich durch ein Projekt über organische elektronische Materialien meine Leidenschaft für Physik, Materialwissenschaften und weiche Materie. Dabei handelt es sich um eine sehr interessante Klasse elektronischer Materialien, die auf flexible oder weiche Substrate aufgebracht werden können und so flexible Elektronik und tragbare Technologien ermöglichen.

Nach meiner Promotion an der Vanderbilt University habe ich mich als Postdoc an der Cornell University weiter auf organische elektronische Materialien spezialisiert. Danach verbrachte ich 15 Jahre in der Privatwirtschaft bei IBM Research, Hitachi Global Storage Technologies und zuletzt bei Western Digital, wo ich an verschiedenen Nanofabrikations- und Selbstmontagetechniken für Halbleiter, magnetische Speicher und Speichertechnologien forschte, bis ich Ende 2019 zum Berkeley Lab kam. Wenn ich zurückblicke, kann ich leicht erkennen, dass ein großer Teil meines beruflichen Werdegangs von einflussreichen und umsichtigen Mentoren geprägt wurde, die mir geholfen haben, meine Karriere aufzubauen und dorthin zu gelangen, wo ich heute bin.

Mentoren können den größten Einfluss darauf haben, Menschen zu motivieren, in STEM-Berufen zu bleiben und qualitativ hochwertige Wissenschaft zu betreiben, die nicht nur für den persönlichen Nutzen, sondern auch für das Wohl der Gesellschaft wichtig ist. Ich hatte großes Glück. Ich hatte hervorragende Mentoren, die mir während meiner gesamten Karriere als Vorbilder gedient haben.

Bei CHiPPS wissen wir alle, wie wichtig Mentoring ist, und deshalb achten wir besonders darauf, dass für die Postdocs und Studenten, die am Zentrum arbeiten, die gleichen Chancen und Erfahrungen vorhanden sind. Wir freuen uns auch über das Ausbildungsprogramm für Studenten, das wir gemeinsam mit der San José State University ins Leben gründeten. Im Rahmen dieses Programms haben vier Studenten die Möglichkeit, im Sommer an der Seite von Wissenschaftlern des Berkeley Lab zu lernen und zu arbeiten.

Duque: Wie beeinflussen Ihre Erfahrungen in der Privatwirtschaft Ihre Herangehensweise an die wissenschaftliche Forschung und das Management am Berkeley Lab?

Ruiz: Meine Erfahrungen in der Privatwirtschaft haben sich als gute Ergänzung zu meiner Arbeit am Berkeley Lab erwiesen. In der Privatwirtschaft sind die Forscher sehr anwendungsorientiert. Und bei meiner Arbeit in der Molecular Foundry des Berkeley Lab suchen wir immer nach Wegen, wie die Wissenschaft eine Anwendung voranbringen kann, auch wenn es sich um Grundlagenforschung handelt.

Eine weitere Erfahrung, die meine Karriere in der Privatwirtschaft stark beeinflusst hat, ist der Fokus auf Teamarbeit. Das Berkeley Lab ist die Wiege der multidisziplinären Teamforschung.

Den Beitrag können Sie hier im englischsprachigen Original lesen: Berkeley Lab

(Übersetzt und bearbeitet von Henning Wriedt)

(mbf)

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